El mètode d'evaporació del feix d'electrons és una mena de recobriment d'evaporació al buit, que utilitza feixos d'electrons per escalfar directament el material d'evaporació en condicions de buit, vaporitzar el material d'evaporació i transportar-lo al substrat i condensar-se sobre el substrat per formar una pel·lícula fina.En el dispositiu d'escalfament del feix d'electrons, la substància escalfada es col·loca en un gresol refrigerat per aigua, que pot evitar la reacció entre el material d'evaporació i la paret del gresol i afectar la qualitat de la pel·lícula.Es poden col·locar diversos gresols al dispositiu per aconseguir l'evaporació i la deposició simultània o separada de diverses substàncies.Amb l'evaporació del feix d'electrons, qualsevol material es pot evaporar.
L'evaporació del feix d'electrons pot evaporar materials d'alt punt de fusió.En comparació amb l'evaporació de la calefacció per resistència general, té una eficiència tèrmica més alta, una densitat de corrent del feix més alta i una velocitat d'evaporació més ràpida.Pel·lícula i pel·lícula de diversos materials òptics com el vidre conductor.
La característica de l'evaporació del feix d'electrons és que no cobreix o rarament cobreix els dos costats de l'estructura tridimensional objectiu, i normalment només es diposita a la superfície objectiu.Aquesta és la diferència entre l'evaporació del feix d'electrons i la pulverització.
L'evaporació del feix d'electrons s'utilitza habitualment en el camp de la investigació i la indústria de semiconductors.L'energia electrònica accelerada s'utilitza per colpejar l'objectiu material, fent que l'objectiu material s'evapori i s'aixequi.Finalment es va dipositar a l'objectiu.
Hora de publicació: desembre-02-2022