Peces de tungstè i molibdè per a la implantació d'ions

La nostra empresa està especialitzada en la producció de peces de tungstè i molibdè per a la implantació d'ions.Aquests components inclouen el cilindre de protecció del càtode d'emissió d'electrons, la placa d'emissió, la vareta de fixació central, la placa de filament de la cambra d'extinció d'arc, etc. La mida del gra dels nostres productes s'afina, la densitat relativa és superior al 99%, les propietats mecàniques d'alta temperatura són superiors a les dels materials ordinaris de tungstè i molibdè, i la vida útil també s'allarga significativament.


  • Aplicació:Implantador d'ions per a la indústria dels semiconductors
  • Material:Pure W, Pure Mo
  • Dimensions:Produeix segons dibuixos
  • MOQ:5 peces
  • Hora d'entrega:10-15 dies
  • Mètode de pagament:T/T, PayPal, Alipay, WeChat Pay, etc
    • linkend
    • twitter
    • YouTube2
    • Facebook1
    • WhatsApp 2

    Detall del producte

    Etiquetes de producte

    Peces de tungstè i molibdè per a la implantació d'ions

    Oferim peces de recanvi de tungstè i molibdè implantades amb ions d'alta precisió.Els nostres productes tenen una mida de partícula fina, una densitat relativa superior al 99%, propietats mecàniques d'alta temperatura més altes que els materials ordinaris de tungstè-molibdè i una vida útil significativament més llarga.

    Aquests components d'implantació iònica inclouen:

    Cilindre blindat de càtode d'emissió d'electrons.

    tauler de llançament.

    Pal central.

    Placa de filament interruptor, etc.

    Informació sobre peces d'implantació iònica

    Nom del producte

    Parts d'implantació iònica

    Material

    Tungstè pur (W) / Molibdè pur (Mo)

    Puresa

    99,95%

    Densitat

    P: 19,3 g/cm³ / Mes: 10,2 g/cm³

    Punt de fusió

    W: 3410 ℃ / Mo: 2620 ℃

    Punt d'ebullició

    W: 5660 ℃ / Mo: 5560 ℃

    Nota: Processament segons dibuixos

    Implantació iònica

    La implantació d'ions és un procés important en la producció de semiconductors.Els sistemes d'implantador introdueixen àtoms estrangers a l'hòstia per canviar les propietats del material, com ara la conductivitat elèctrica o l'estructura cristal·lina.El camí del feix d'ions és el centre del sistema implantador.Allà, els ions es creen, es concentren i s'acceleren cap a l'hòstia a velocitats extremadament altes.

    Peces de tungstè i molibdè per a la implantació d'ions

    Quan la font d'ions es converteix en ions de plasma, es creen temperatures de funcionament superiors als 2000 °C.Quan el feix d'ions és expulsat, també produeix una gran quantitat d'energia cinètica iònica.El metall generalment es crema i es fon ràpidament.Per tant, es requereix metall noble amb densitats de massa més altes per mantenir la direcció de l'expulsió del feix d'ions i augmentar la durabilitat dels components.El tungstè i el molibdè són el material ideal.

    Per què triar materials de tungstè i molibdè per a components d'implantació d'ions

    Bona resistència a la corrosióAlta resistència del materialBona conductivitat tèrmica

    Asseguren que els ions es generen de manera eficient i es concentren amb precisió a l'hòstia en el camí del feix i lliures de qualsevol impuresa.

    Parts de molibdè de tungstè implantades amb ions

    Els nostres Avantatges

    Matèries primeres d'alta qualitat
    Tecnologia de producció avançada
    Mecanitzat CNC de precisió
    Control de qualitat estricte
    Temps de lliurament més curt

    Optimitzem en funció del procés de producció original de materials de tungstè i molibdè.Mitjançant el refinament del gra, el tractament d'aliatge, la sinterització al buit i la densificació de sinterització de premsa isostàtica en calent, el refinament del gra secundari i la tecnologia de laminació controlada, la resistència a alta temperatura, la resistència a la fluència i la vida útil dels materials de tungstè i molibdè es milloren significativament.

    Tecnologia d'implantació iònica de semiconductors

    La implantació iònica és un procés d'ús habitual per dopar i modificar materials semiconductors.L'aplicació de la tecnologia d'implantació iònica ha promogut molt el desenvolupament de dispositius semiconductors i la indústria de circuits integrats.D'aquesta manera, la producció de circuits integrats entri a l'era de la gran i ultragran escala (ULSI).

    implantació d'ions semiconductors
    Responsable de vendes-Amanda-2023001

    Contacta amb nosaltres
    AmandaCap de vendes
    E-mail: amanda@winnersmetals.com
    Telèfon: +86 156 1977 8518 (WhatsApp/Wechat)

    Codi QR de WhatsApp
    Codi QR de WeChat

    Si voleu conèixer més detalls i preus dels nostres productes, poseu-vos en contacte amb el nostre responsable de vendes, us respondrà el més aviat possible (normalment no més de 24h), gràcies.


  • Anterior:
  • Pròxim:

  • Escriu el teu missatge aquí i envia'ns-ho